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          山東力冠微電子裝備

          產(chǎn)品展示


          HVPE 法單晶生長(zhǎng)設(shè)備 —臥式

          適用領(lǐng)域:?jiǎn)尉L(zhǎng)、外延生長(zhǎng) Relevant Industries: Single Crystal Growth, Epitaxial Growth 適用材料: ?GaN(單晶)、AIN(單晶/外延)、Ga2O3(外延) Suitable for Processing: GaN (single crystal),AlN (single crystal / epitaxial)Ga2O3 (epitaxial) 晶圓尺寸:? 12/8/6 英寸 Wafer Size: 12/8/6? inch

          HVPE 法單晶生長(zhǎng)設(shè)備 —立式

          適用領(lǐng)域:?jiǎn)尉L(zhǎng)、外延生長(zhǎng) Relevant Industries: Single Crystal Growth, Epitaxial Growth 適用材料: ?GaN(單晶)、AIN(單晶/外延)、Ga2O3(外延) Suitable for Processing: GaN (single crystal),AlN (single crystal / epitaxial)Ga2O3 (epitaxial) 晶圓尺寸:12/ 8/6 英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch

          PVT法長(zhǎng)晶爐——電阻爐

          適用領(lǐng)域:?jiǎn)尉L(zhǎng) Relevant Industries: ?Single Crystal Growth 適用材料: ?SiC、AIN Suitable for Processing: ?SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圓尺寸: ?12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch

          PVT法長(zhǎng)晶爐——感應(yīng)爐

          適用領(lǐng)域:?jiǎn)尉L(zhǎng) Relevant Industries: ?Single Crystal Growth 適用材料: ?Si、AIN Suitable for Processing: ?SiC (Silicon Carbide), AlN (Aluminum Nitride) 晶圓尺寸: ?12/8 英寸 Wafer Size: 12/8 inch

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